Vés al contingut
Home Publications Electron beam lithography for direct patterning of MoS2 on PDMS substrates

Electron beam lithography for direct patterning of MoS2 on PDMS substrates

  • per
Resum de la privadesa

Aquest lloc web utilitza galetes per tal de proporcionar-vos la millor experiència d’usuari possible. La informació de les galetes s’emmagatzema al navegador i realitza funcions com ara reconèixer-vos quan torneu a la pàgina web i ajuda a l'equip a comprendre quines seccions del lloc web us semblen més interessants i útils.